极紫外光刻市场（2024 - 2030）

极紫外光刻市场概述

在缩小尺寸的同时提高功率和效率，制造商正在转向极紫外（EUV）光刻作为生产下一代半导体的关键技术。这一趋势主要是由消费电子、汽车和高性能计算等领域的持续进步推动的。 EUV 光刻是半导体制造过程中使用的尖端技术，可在硅晶圆上创建高度复杂的图案。该技术采用极短波长的光（在极紫外光谱中）来实现前所未有的分辨率和精度，从而能够生产更小、更快、更高效的半导体器件。欧盟V 光刻代表了传统光刻技术的重大进步，为从智能手机和计算机到先进人工智能和 5G 网络等各种高科技应用所需的下一代微芯片打开了大门。

促进 EUV 光刻市场增长的另一个因素是半导体行业本身的快速创新和技术进步。随着芯片制造商不断突破可能的界限，EUV 光刻凭借其无与伦比的精度和可扩展性，成为实现这些进步的关键工具。

驱动因素、机遇和限制

EUV 光刻能够在芯片上打印极其精细的特征，对于 7nm 节点及以下节点芯片的开发至关重要，有助于生产更快、更强大的处理器模式所需人工智能、5G 通信和自动驾驶汽车等应用。对这些技术的推动导致主要行业参与者在 EUV 光刻方面进行了大量投资，以提高其制造能力并满足不断增长的市场需求。

此外，对能够在较低功耗下运行而不影响性能的更节能的电子设备的需求正在进一步推动 EUV 光刻市场的增长。随着可持续性问题变得更加明显，并且能源效率成为消费者和制造商的关键参数，EUV 光刻技术的采用在生产下一波环保电子产品中发挥着至关重要的作用。这将对 EUV 光刻市场的需求产生积极影响。

EUV 光刻系统的制造和实施需要大量的资本投资，不仅用于精密设备本身，还用于开发支持这些先进系统所需的基础设施。 EUV 光刻中使用的极紫外光源极其复杂且生产成本高昂，使得许多半导体制造商的初始设置和运营成本过高。

设备洞察

“从 2024 年到 2030 年，掩模版市场的需求预计将以 17.7% 的复合年增长率增长， ”

光源领域引领市场，到 2023 年占全球收入份额的 40.1%。极紫外 (EUV) 光刻市场的光源设备领域正在经历显着增长，这主要是由半导体行业推动生产更小、更高效的芯片推动的。这一需求是由 EUV 光刻在硅晶圆上实现亚 10 纳米特征图案化方面的关键作用推动的，这对于下一代半导体器件至关重要设备。光源技术的进步、领先半导体制造商的大量投资、技术创新的战略合作伙伴关系以及政府对半导体研发的支持是推动该细分市场的关键因素。

掩模设备细分市场在EUV光刻市场中发挥着至关重要的作用，随着对先进半导体器件的需求不断升级，掩模设备领域呈现出大幅增长。随着 EUV 光刻技术能够生产 7 纳米以下几何形状的芯片，掩模制造所需的复杂性和精度显着增加。掩模或光掩模对于将电路图案转移到半导体晶圆上至关重要，该工艺的精度直接影响最终半导体产品的性能和良率。上述因素将进一步推动对极紫外（EUV）光刻的需求。

最终用途见解

“就收入而言，从2024年到2030年，代工终端用途细分市场的需求预计将以16.8%的复合年增长率大幅增长。”

集成器件制造商(IDM)终端用途细分市场在2023年占全球收入份额的63.9%。从事设计、制造和销售半导体产品的IDM公司越来越多地采用EUV光刻技术来推动芯片性能、功耗和面积 (PPA) 的界限。这种采用是由于各种应用（包括计算、移动、汽车和物联网）对更强大、更高效的电子设备的需求不断增长而推动的。此外，EUV 光刻能够在硅晶圆上刻画出极其精细的特征，对于生产下一代半导体器件至关重要。

考虑到铸造厂最终用途的极紫外 (EUV) 光刻市场有望大幅增长，它在推动半导体制造达到新高度方面发挥着关键作用。随着半导体行业继续不懈地追求更小、更强大、更节能的设备，代工厂越来越依赖 EUV 光刻来满足这些先进的技术要求。这项技术以其在硅晶圆上形成极精细特征的能力而闻名，对于生产智能手机、人工智能、汽车和高性能计算等多种应用所需的下一代半导体芯片至关重要。

区域见解

北美极紫外 (EUV) 光刻市场受到计算、电信和消费电子等多个行业对更小、更强大的半导体器件不断增长的需求的显着推动。随着对小型化的不断追求，半导体制造商不断突破界限根据摩尔定律，EUV 光刻已成为一种关键技术，能够生产特征尺寸远低于 10 纳米的芯片，这正在推动极紫外 (EUV) 光刻市场的扩张。

亚太极紫外光刻市场趋势

“中国将以 19.2% 的复合年增长率见证最快的市场增长”

亚太地区的极紫外(EUV)光刻市场在全球极紫外(EUV)光刻市场中占有68.36%的重要份额，这主要得益于其强大的半导体制造基础和领先的半导体代工厂的存在。韩国、台湾和中国等国家/地区拥有一些全球最大的半导体制造公司和代工厂，例如三星、台积电和中芯国际，它们处于采用包括 EUV 光刻在内的尖端制造技术的前沿。怀ch 将在预测期内推动对极紫外 (EUV) 光刻的需求。

预计中国极紫外光刻市场在预测期内将以 19.2% 的复合年增长率显着增长。在中国不断增加研发投资以及购买 EUV 光刻系统等最先进芯片制造设备的推动下，中国的极紫外 (EUV) 光刻市场正在经历快速增长。 EUV 光刻对于制造具有更小、更高效电路的下一代半导体器件至关重要，是中国在 5G、人工智能和电动汽车等领域取得卓越成就的战略的核心，是推动中国 EUV 光刻市场增长的关键因素。

欧洲极紫外光刻市场趋势

欧洲极紫外 (EUV) 光刻市场正在快速增长由于广告半导体技术的进步和强大的研发生态系统。欧洲半导体制造商和研究机机器使半导体制造商能够制造更小、更强大、更节能的微芯片，这对于推动各个行业的技术创新至关重要。其产品组合包括深紫外（DUV）光刻机和突破性的极紫外（EUV）光刻系统。 ASML 的 EUV 技术代表了重大飞跃英特尔公司从事微处理器和半导体芯片的开发和制造。作为全球个人电脑制造商的重要供应商，英特尔通过对技术进步的不懈追求和对研发的坚定承诺，继续塑造计算、人工智能和宽带数字通信的未来。该公司通过采用极紫外（EUV）光刻技术，在半导体行业取得了重大进展。这一进步允许通过采用极其精确的光源在芯片上蚀刻更精细的电路来创建更小、更高效的微处理器。

NTT Advanced Technology Corporation、佳能公司和尼康公司是极紫外 (EUV) 光刻市场的一些新兴市场参与者ket.

• 尼康公司已实现产品组合多元化，包括一系列光学产品，包括显微镜、双筒望远镜和测量仪器，展示了其在精密光学和成像技术方面的实力。该公司对卓越和创新的承诺巩固了其在市场中的地位，使其能够适应快速变化的技术环境，同时继续通过其先进且用户友好的产品激发和增强视觉故事讲述的能力。公司EUV产品能够以无与伦比的精度在硅晶圆上刻蚀特征，支持半导体行业不断推动小型化和下一代芯片的开发。

• 佳能公司是全球知名的成像和光学产品领导者，通过进军极紫外（EUV）光刻技术，在半导体光刻设备市场取得了重大进展。这一举动代表了一个枢轴芯片制造的全面进步，允许更复杂和更小的微芯片设计。 EUV 光刻之所以脱颖而出，是因为它使用极短的波长，显着提高了光刻工艺的分辨率和效率，这对于生产下一代半导体器件至关重要。

近期动态

• 2024 年 1 月，蔡司集团推出高NA（数值孔径）极紫外（EUV）光刻系统。与现有的 EUV 系统相比，这种尖端系统代表了半导体制造领域的巨大飞跃，能够创建具有令人难以置信的精细功能的微芯片。

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